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第九届薄膜物理与应用国际会议在沪成功举办
| 16-12-26| 访问次数: | 【 【打印】【关闭】

  1126日至29日,由中国科学院上海技术物理研究所、武汉理工大学硅酸盐国家重点实验室和上海市现场物证重点实验室承办的第九届薄膜物理与应用国际会议(The 9th International Conference on Thin Film Physics and ApplicationsTFPA2016)在沪成功举办。会议得到中国物理学会、上海市物理学会和中国硅酸盐学会薄膜与涂层专业委员会的大力支持。中国科学院院士、中科院上海技术物理所研究员和华东师范大学教授褚君浩先生担任此次会议主席,中科院上海技术物理所副所长戴宁研究员担任此次会议程序委员会主席。 

  薄膜物理与应用国际会议是目前在薄膜物理与应用领域最具有影响力的国际系列会议之一,自1991年举办第一次会议以来,每三年一次在上海举办。本次会议以精确感知,深度应用为主题,探讨薄膜物理与应用领域的新理论、新技术、新方法以及新应用等方面的最新进展,内容涵盖薄膜物理、薄膜技术、薄膜材料和薄膜应用等各个学科领域。共有来自美国、英国、意大利、新加坡、日本和韩国以及国内著名高校、研究机构和企业的105位代表出席了本次会议。会议期间,共有4位国内外著名学者做了大会报告,分别是伦敦大学学院(University College London)的Gopinathan Sankar教授,国际薄膜学会会长、新加坡南洋理工大学的Sam Zhang教授,中国硅酸盐学会薄膜与涂层专业委员会理事长、武汉理工大学赵修建教授,中科院上海技术物理所光学薄膜与材料研究室主任刘定权研究员。11位国内外专业领域的领军科学家做了主旨报告,12位国内外优秀的青年科学家代表做了邀请报告。会议代表中既有国际薄膜学会会长这样的国际知名专家,也有国内专业领域的领军人才。国内与会代表中有中国科学院院士1人、“长江学者奖励计划”特聘教授2人、国家“万人计划”领军人才1人,中组部“千人计划”特聘专家1人,“万人计划”首批“青年拔尖人才计划”获得者1人,国家“青年千人计划”入选者1人,中国科学院“百人计划”入选者3人。此外,为了鼓励青年科学家和研究生积极参加国际学术活动,培养使用英语介绍研究成果的能力,此次会议还安排了口头报告,并在报告结束后请5位国内外专业领域的领军科学家对口头报告进行评奖。会议共评出优秀口头报告一等奖一名、二等奖两名和优秀奖三名,由会议组织委员会为获奖者颁发了获奖证书及奖金。 

  会议闭幕式上,褚君浩院士和戴宁副所长分别致闭幕词,他们指出薄膜技术的应用已经深入到了人们生活的每个方面,而我们的薄膜物理与应用国际会议也走过了九届的里程,相信今后的会议也会随着薄膜技术的发展而发扬光大,越办越好。会议在热烈的掌声中圆满闭幕!

大会合影

 

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